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谢谢谬赞经典回复,过誉和谬赞的区别 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界(jiè)4月(yuè)24日消(xiāo)息,国(guó)家(jiā)知识产(chǎn)权局局长申(shēn)长(zhǎng)雨在新闻(wén)发布(bù)会(huì)上(shàng)表示(shì),将统筹推进各(gè)类知(zhī)识产权(quán)法律法(fǎ)规(guī)和制度规则的制(zhì)修订工作。其(qí)中,修改完善(shàn)集(jí)成电路布图设计(jì)保护条(tiáo)例,适应大(dà)谢谢谬赞经典回复,过誉和谬赞的区别规模集(jí)成电(diàn)路发展(zhǎn)需要,助(zhù)力芯片产业做大做强,服务数(shù)字经(jīng)济更好发展。

  加强(qiáng)大数据、人工智能、基(jī)因技术等(děng)新(xīn)领域(yù)新业态知识产权规则研(yán)究,助力(lì)相关(guān)领域创新发展。同时,积极参与知识产权国际规(guī)则制定(dìng),更好(hǎo)对接高标准(zhǔn)国际经贸规则,助(zhù)力高水平对外开放(fàng)。

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