大家好，来看一则突(tū)发消息(xī)。

　　美光(guāng)公司在华销售的产品未通过网(wǎng)络安全审查(chá)

　　据网信办消(xiāo)息，日前，网络安全审(shěn)查办公(gōng)室依法对美光公司在华销(xiāo)售产(chǎn)品进行(xíng)了(le)网络安全(quán)审查。

　　审查发现，美光公(gōng)司产(chǎn)品(pǐn)存在较严(yán)重网络安(ān)全(quán)问(wèn)题(tí)隐患，对我(wǒ)国关键信(xìn)息基(jī)础设施供(gōng)应链(liàn)造成重大(dà)安全风险，影响我国国家安(ān)全。为此，网络安全(quán)审(shěn)查办(bàn)公室依法作(zuò)出不予通过网络安全审查(chá)的结(jié)论(lùn)。按照(zhào)《网络安全法(fǎ)》等法律(lǜ)法(fǎ)规，我国内关键信息基础设施的运(yùn)营者应(yīng)停止采购美光公司产品。

　　此次(cì)对美光公司产品进行网络安全审查(chá)，目的是(shì)防范产品网络安全问(wèn)题危(wēi)害国(guó)家关键信息基础设施(shī)安全，是维护国家安(ān)全的(de)必要(yào)措施。中国坚定推进(jìn)高水平(píng)对外开放，只要遵(zūn)守中国法律法规要求(qiú)，欢迎各国企(qǐ)业、各类平台产品服务进入中国(guó)市(shì)场(chǎng)。

　　3月(yuè)31日，中国网信网发文称(chēng)，为保障关键(jiàn)信息基(jī)础设施(shī)供应链(liàn)安全(quán)，防范产(chǎn)品问(wèn)题隐患造成网络安全风(fēng)险，维护国家安全，依据(jù)《中华人民(mín)共和国国家安全法》《中华人(rén)民共(gòng)和国网络安全法》，网络安全审(shěn)查办公室按照《网(wǎng)络安(ān)全审查办法》，对(duì)美光公(gōng)司（Micron）在华销售的产品实施(shī)网(wǎng)络安全审(shěn)查。

　　分压公式是什么，分压公式是什么意思="http://getimg.jrj.com.cn/images/2023/05/weixin/one_20230521204212521.png">

　　美光是美国的存储芯片行业龙头(tóu)，也是全球存储芯片巨头(tóu)之一，2022年收入来自中国市场收入从此前(qián)高峰57％降至(zhì)2022年约11％。根(gēn)据市场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三(sān)星电子(zi)、 铠侠、西(xī)部数据、SK 海力士、美(měi)光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场份额约为 96.76％，三星电子、 SK 海力士、美光在全(quán)球 DRAM （内存）市场份额约为 94.35％。

　　A股(gǔ)上市(shì)公司(sī)中，江(jiāng)波(bō)龙、佰维存储等公司披露过美光(guāng)等(děng)国(guó)际存储厂商为公(gōng)司供应(yīng)商。

　　美(měi)光在江波龙采购占比已经显著下降，至少已(yǐ)经不是主要大供应商。

　　公告显示， 2021年美光位(wèi)列江波(bō)龙第一大存储晶圆供应(yīng)商，采购约31亿(yì)元，占比33.52％；2022年，江波龙(lóng)第一大、第二大和第三大供应商(shāng)采购金额占比分别(bié)是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙已(yǐ)经在存储(chǔ)产(chǎn)业链上下游(yóu)建立国内(nèi)外广(guǎng)泛合作。20分压公式是什么，分压公式是什么意思22年(nián)年报(bào)显(xiǎn)示，江波龙与(yǔ)三(sān)星、美(měi)光、西部数据等主(zhǔ)要存储晶圆原厂签署了长期合约，确保存储晶圆(yuán)供应的稳(wěn)定性，巩固公司在下游(yóu)市场的供应(yīng)优势，公司也与国内(nèi)国产(chǎn)存储晶圆原厂武(wǔ)汉长江存(cún)储(chǔ)、合肥长(zhǎng)鑫(xīn)保(bǎo)持良好(hǎo)的合作。

　　有券商(shāng)此前(qián)就(jiù)分(fēn)析，如果美光(guāng)在中国(guó)区销售受(shòu)到限(xiàn)制，或将导致下游(yóu)客(kè)户转(zhuǎn)而采购国外三(sān)星、 SK海(hǎi)力士，国内长江存(cún)储、长鑫存(cún)储等(děng)竞对产品(pǐn)

　　分析称，长存、长(zhǎng)鑫(xīn)的(de)上(shàng)游(yóu)设备厂或从(cóng)中(zhōng)受益。存储(chǔ)器(qì)的生产已经演进(jìn)到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的(de)工艺。另外NAND Flash现(xiàn)在已经进入3D NAND时代，2 维到3维的结(jié)构转变使刻(kè)蚀(shí)和薄膜(mó)成(chéng)为最关键(jiàn)、最大量的加工设备。3D NAND每层均需要(yào)经过(guò)薄膜沉(chén)积工艺步(bù)骤(zhòu)，同时刻蚀目前前(qián)沿要(yào)刻到 60：1的深(shēn)孔，未来可能会更深的孔或者沟(gōu)槽，催生更多(duō)设(shè)备需求(qiú)。据东京电子披露，薄膜沉积设备及刻蚀占3D NAND产线(xiàn)资(zī)本开支合计为75％。自长江存储被(bèi)加入美国限制名单(dān)，设(shè)备国产化进(jìn)程加速，看好拓荆(jīng)科技(jì)（薄膜沉积）等相(xiāng)关公司份额(é)提(tí)升，以及存储业务(wù)占比较高的华(huá)海清科(kē)（CMP）、盛美上海（清洗）等收入(rù)增长。

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