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　　美光(guāng)公司(sī)在华销售的产(chǎn)品未通过(guò)网络(luò)安全审查

　　据网信(xìn)办消息，日前(qián)，网络(luò)安全审查办公(gōng)室依(yī)法对美光(guāng)公司在华销售产品进行了网络(luò)安(ān)全审查(chá)。

　　审查发现，美光公司产品存在较严重网络安全问题隐患，对我(wǒ)国关键(jiàn)信息基础设施供应链造成重大安全风险，影响我国(guó)国家安全(quán)。为此(cǐ)，网络安全审查办公室依(yī)法作出(chū)不(bù)予通过(guò)网络安全审查的结论。按照《网络安全法》等法律法规，我国(guó)内关键(jiàn)信息基础(chǔ)设施的运(yùn)营者(zhě)应(yīng)停(tíng)止采购(gòu)美光公司产(chǎn)品。

　　此次对美(měi)光公(gōng)司产品进行(xíng)网络安全审查，目的是防范产品网络安全问题危害国(guó)家关键信息基础设(shè)施安(ān)全，是维护国家安(ān)全的(de)必要(yào)措施(shī)。中国(guó)坚定推进高(gāo)水平对外开放，只(zhǐ)要遵守中国法律(lǜ)法(fǎ)规要求(qiú)，欢迎各(gè)国企(qǐ)业、各类平台产品服务进入(rù)中国市场(chǎng)。

　　3月31日，中国(guó)网信网发(fā)文称，为保(bǎo)障关键信息基(jī)础设施供应链安全，防范产(chǎn)品问题(tí)隐患造成网络安全风险(xiǎn)，维护(hù)国(guó)家(jiā)安全(quán)，依据《中华人民(mín)共和国国家安全法》《中华人民共和国网络安全(quán)法》，网络安全(quán)审查办公室(shì)按照《网络(luò)安全审(shěn)查(chá)办(bàn)法》，对(duì)美光公司（Micron）在华(huá)销售的(de)产品实施(shī)网络安(ān)全审查。

　　美光是美(měi)国的存储芯片行业龙头，也是全球存储芯片(piàn)巨头(tóu)之一，2022年收入来自中国市场收入(rù)从此前高峰57％降至2022年约11％。根据市场(chǎng)咨询(xún)机构 Omdia（IHS Markit）统(tǒng)计，2021 年三星电(diàn)子、 铠侠、西部数据、SK 海力(lì)士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市(shì)场份(fèn)额约为 96.76％，三星电子(zi)、 SK 海(hǎi)力士、美光在全球(qiú) DRAM （内存）市场份额约为 94.35％。

　　A股上(shàng)市公司中，江波龙、佰维存储等公司披露过美光等国际存(cún)储厂商为公司供应商。

　　美(měi)光在(zài)江(jiāng)波龙采购占(zhàn)比已经显(xiǎn)著下降，至(zhì)少已经不是主要大供应(yīng)商。

　　公告显示， 2021年美光位(wèi)列江波龙第一大存(cún)储晶圆供应商，采购约31亿元，占比33.52％；2022年，江波龙第一大、第二大和第三大供应商采购金(jīn)额(é)占(zhàn)比(bǐ)分(fēn)别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前(qián)江(jiāng)波龙已经在存储产业链(liàn)上下游建立国内外广泛合作(zuò)。2022年年报显示，江波龙与三(sān)星、美(měi)光、西部数据等主要存储晶圆原厂签署了长(zhǎng)期合约，确保存储晶圆(yuán)供应(yīng)的(de)稳定性，巩固公司(sī)在下(xià)游市场的供应优势，公司也与国内国产(chǎn)存(cún)储晶圆原厂(chǎng)武汉长(zhǎng)江(jiāng)存储、合(hé)肥(féi)长鑫保持(chí)良好(hǎo)的合作(fio2吸氧浓度计算公式中的4是什么意思，氧合指数的计算公式zuò)。

　　有券商此前就分析，如(rú)果美光在中国区销售受(shòu)到限制(zhì)，或将导致下游客(kè)户(hù)转而采购国外三星(xīng)、 SK海力士，国内(nèi)长(zhǎnfio2吸氧浓度计算公式中的4是什么意思，氧合指数的计算公式g)江存储、长鑫存(cún)储(chǔ)等(děng)竞对产(chǎn)品

　　分析称(chēng)，长存、长鑫的(de)上(shàng)游设备厂或从(cóng)中受益。存储器的生产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另(lìng)外NAND Flash现在已经进(jìn)入3D NAND时代，2 维到(dào)3维的结构转变使刻蚀和薄膜成为最关(guān)键、最大量的加工设备。3D NAND每层均需(xū)要经过薄(báo)膜(mó)沉积工艺(yì)步(bù)骤，同时刻蚀目前前沿要刻(kè)到(dào) 60：1的深孔，未来可能会更深(shēn)的孔或者沟(gōu)槽，催生更多设备需(xū)求。据东京电子披露，薄(báo)膜沉积(jī)设(shè)备(bèi)及刻蚀占(zhàn)3D NAND产线资本开支(zhī)合计为(wèi)75％。自(zì)长(zhǎng)江存(cún)储被加(jiā)入美国限(xiàn)制名单，设(shè)备(bèi)国(guó)产化进(jìn)程(chéng)加速(sù)，看好(hǎo)拓荆科技（薄膜沉积(jī)）等相关公(gōng)司(sī)份额提升，以及存储业务占比较高的华海(hǎi)清科(kē)（CMP）、盛美(měi)上海（清洗(xǐ)）等收(shōu)入增长。

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