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　　美光公司在华销(xiāo)售的产(chǎn)品未通过网络(luò)安(ān)全审查

　　据(jù)网(wǎng)信办消息，日前，网络安(ān)全(quán)审查办公室依(yī)法对美光公司在华销(xiāo)售产品进行(xíng)了网络安全(quán)审查(chá)。

　　审查(ch找对象硬性条件是什么意思，硬性条件是啥意思á)发(fā)现，美(měi)光公司产(chǎn)品(pǐn)存在较严(yán)重网络安全问题(tí)隐(yǐn)患，对(duì)我国(guó)关键(jiàn)信息基(jī)础设施供应链造(zào)成重(zhòng)大安全风险，影(yǐng)响我国国家安全。为(wèi)此，网络安全审查办公室依(yī)法作出(chū)不予通过网络安全(quán)审查的结论。按照《网络安全法》等法律法规(guī)，我国内(nèi)关(guān)键信(xìn)息基础设(shè)施(shī)的运(yùn)营者应停止采(cǎi)购美光公司(sī)产(chǎn)品。

　　此次(cì)对美光公(gōng)司产品进(jìn)行网络安全(quán)审查，目的是防(fáng)范(fàn)产品网络安全问题危害国(guó)家关键信(xìn)息基础设施(shī)安全(quán)，是维护国(guó)家安全的(de)必要措施。中国坚(jiān)定推进高水平对外开放，只要遵守(shǒu)中(zhōng)国法律法规要求(qiú)，欢迎各国企业、各类(lèi)平台产品服务进入中(zhōng)国市场。

　　3月31日(rì)，中国网信网发文称，为保(bǎo)障(zhàng)关(guān)键(jiàn)信(xìn)息基础设施供(gōng)应链安全，防范产品问题隐(yǐn)患造成网络安(ān)全风(fēng)险，维(wéi)护国(guó)家安全(quán)，依据(j找对象硬性条件是什么意思，硬性条件是啥意思ù)《中华(huá)人(rén)民共和国(guó)国(guó)家安全法》《中(zhōng)华(huá)人(rén)民共(gòng)和国网络安全法》，网络安全审查办公(gōng)室按照(zhào)《网络安全审查(chá)办法》，对美光公司（Micron）在华(huá)销售的产品实施网络安全审查。

　　美光是美国的存储芯片行业龙头，也是(shì)全球存储芯片巨头之一(yī)，2022年收入来自(zì)中国市场收入从此前高峰57％降至2022年(nián)约11％。根(gēn)据市场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统(tǒng)计，2021 年三星电子、 铠侠(xiá)、西部数据、SK 海力士、美光(guāng)、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪(shǎn)存(cún)）市场份额约为 96.76％，三(sān)星电子、 SK 海力士、美光在全球 DRAM （内存）市(shì)场份额约(yuē)为 94.35％。

　　A股(gǔ)上市公司中，江波龙、佰维存储等公司披露过(guò)美光等(děng)国际存储厂商(shāng)为公司供应商。

　　美光在江(jiāng)波(bō)龙采购占比已经(jīng)显著下降，至少已经不是(shì)主要大供应商。

　　公告显示， 2021年(nián)美(měi)光位列江(jiāng)波龙第一大存(cún)储晶圆供(gōng)应商，采购约(yuē)31亿元(yuán)，占比33.52％；2022年，江波龙第一大、第二大和第(dì)三大供应商采购(gòu)金额占比分别是(shì)26.28％、22.85％和5.76％。

　　目(mù)前江(jiāng)波龙已经在(zài)存储产业(yè)链上下游建(jiàn)立国内外广泛合(hé)作(zuò)。2022年(nián)年报显示，江(jiāng)波龙与三(sān)星(xīng)、美光、西部数据等主要(yào)存储(chǔ)晶(jīng)圆原厂(chǎng)签署了长期合约，确(què)保存储晶圆供应(yīng)的(de)稳定性，巩固公(gōng)司(sī)在下游市场的供应(yīng)优(yōu)势，公司也与(yǔ)国内(nèi)国(guó)产存储晶圆原厂武汉长江存储、合肥长(zhǎng)鑫(xīn)保持良好的(de)合作。

　　有券商此前就分析，如果美(měi)光在中(zhōng)国区(qū)销售受到限制，或将(jiāng)导致(zhì)下游客户转而采购国外三星、 SK海力士(shì)，国(guó)内长江存储、长(zhǎng)鑫存储等竞对(duì)产(chǎn)品

　　分析称，长存、长鑫的上游设(shè)备厂或从中受益。存储器的生产已经演(yǎn)进(jìn)到(dào)1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外NAND Flash现在已经(jīng)进(jìn)入3D NAND时代，2 维到3维的结构转变使(shǐ)刻蚀和薄膜成为(wèi)最关键(jiàn)、最大量的加工设备。3D NAND每层均(jūn)需要(yào)经过薄(báo)膜沉积(jī)工艺(yì)步(bù)骤，同时刻(kè)蚀(shí)目前前沿要刻到 60：1的(de)深(shēn)孔，未来(lái)可能会更深的孔或者沟槽，催(cuī)生更多设备(bèi)需求。据(jù)东京电子披露，薄膜沉积设备(bèi)及刻蚀占3D NAND产线资本开(kāi)支合计为75％。自长江存(cún)储(chǔ)被加入美(měi)国限制名(míng)单，设(shè)备国产化进程加速，看好拓荆(jīng)科(kē)技（薄膜沉积）等(děng)相关公司份额提升，以及存储(chǔ)业务(wù)占比(bǐ)较高的华海清科（CMP）、盛美上海(hǎi)（清(qīng)洗）等收入(rù)增长。

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