大家好，来看一则突发消息。

　　美光公司(sī)在华销(xiāo)售的产品(pǐn)未通过网络(luò)安全审查

　　据网信办(bàn)消(xiāo)息(xī)，日前，网络安全审查办(bàn)公室依法对(duì)美光公司在华销(xiāo)售产品进行(xíng)了网络安全审查(chá)。

　　审查(chá)发现，美光公司产品存在较严重网络安全问题隐患(huàn)，对我(wǒ)国关键信息基(jī)础设施供应链(liàn)造成重大安(ān)全(quán)风险，影响我(wǒ)国(guó)国家安全。为此，网络安(ān)全审查办公室依法作出不予(yǔ)通过(guò)网络(luò)安全审查的结论。按照《网(wǎng)络安全法》等法律法规，我国内关键信息基(jī)础设(shè)施的(de)运营(yíng)者应停止采购美光公司产品。

　　此次对美光(guāng)公司产品进行网(wǎng)络安全审查，目的是防范产(chǎn)品网络安全问题危害(hài)国家关键(jiàn)信息基础(chǔ)设施安全(quán)，是(shì)维(wéi)护国家安全的必要措施。中国坚定推进高(gāo)水平对外开放，只要遵守中国法(fǎ)律法(fǎ)规要求(qiú)，欢迎各国(guó)企业、各(gè)类平(píng)台(tái)产品服务(wù)进入中国市场。

　　3月(yuè)31日，中国网信网发文称，为保障关键信息基础设施供应链安(ān)全，防(fáng)范产品问题隐(yǐn)患(huàn)造成网(wǎng)络安全(quán)风险(xiǎn)，维护(hù)国家安全，依据《中华人民共和(hé)国国家安全法(fǎ)》《中华人民共和国网(wǎng)络安全法》，网(wǎng)络安全审查办公室按照《网络安全审查(chá)办法》，对美(měi)光公司（Micron）在华销售的产品实施网络安全审查(chá)。

　　美光是美国的存(cún)储芯片行(xíng)业(yè)龙头，也是全球存储芯片巨头之一，2022年收(shōu)入来自(zì)中国市场(chǎng)收入从(cóng)此前高峰57％降至2022一般动画一秒多少帧，逐帧动画一秒多少帧年约11％。根据市场咨询机(jī)构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电子、 铠侠、西部数据(jù)、SK 海力士(shì)、美光、Solidigm 在(zài)全(quán)球 NAND Flash （闪存）市场(chǎng)份额(é)约为 96.76％，三星(xīng)电子、 SK 海力(lì)士(shì)、美(měi)光在全球 DRAM （内存）市场份额约(yuē)为 94.35％。

　　A股上市公司中，江波龙、佰维存储等公(gōng)司披露过美(měi)光等(děng)国(guó)际存储厂(chǎng)商为(wèi)公司(sī)供应商。

　　美光(guāng)在江(jiāng)波(bō)龙采购占比已经(jīng)显著下降(jiàng)，至少(shǎo)已经不是主要大供应商。

　　公告显示， 2021年美光位(wèi)列(liè)江波龙(lóng)第一大存储晶圆供应(yīng)商(shāng)，采购约(yuē)31亿元，占比33.52％；2022年，江波龙(lóng)第一大、第二大(dà)和第三大供应(yīng)商采购金额(é)占比分别(bié)是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江(jiāng)波龙已(yǐ)经在存储产业链上下游建立国(guó)内外广泛(fàn)合作。2022年年报显示，江波龙与三(sān)星、美光、西部数据等主要(yào)存储晶(jīng)圆(yuán)原厂签署了(le)长期合约(yuē)，确保存储(chǔ)晶(jīng)圆供应的(de)稳定性，巩固公司在下游(yóu)市(shì)场的(de)供应优势，公司(sī)也与国内国产(chǎn)存储晶圆(yuán)原厂武汉长江存储、合肥长鑫保持良好(hǎo)的合作。

　　有券商此前(qián)就分析(xī)，如果(guǒ)美光(guāng)在中国区销售(shòu)受到限(xiàn)制，或将导(dǎo)致下游客户转而采购国外(wài)三星、 SK海力(lì)士，<一般动画一秒多少帧，逐帧动画一秒多少帧strong>国内(nèi)长江存(cún)储、长鑫(xīn)存储等竞对产品

　　分析称，长(zhǎng)存、长鑫的上游(yóu)设备厂或(huò)从中受益。存储器的生产已(yǐ)经演进(jìn)到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的工艺。另外NAND Flash现在已经进入3D NAND时代(dài)，2 维(wéi)到(dào)3维(wéi)的结(jié)构转变使(shǐ)刻蚀和薄膜成为最关键、最大(dà)量(liàng)的加工设(shè)备。3D NAND每层均需要(yào)经过(guò)薄膜沉积工艺步骤，同时(shí)刻蚀目前前沿要(yào)刻(kè)到 60：1的深孔，未来可能会更(gèng)深的孔或(huò)者沟槽，催(cuī)生更多设(shè)备需求。据东京电(diàn)子披露，薄膜沉积设(shè)备及刻蚀(shí)占(zhàn)3D NAND产线(xiàn)资(zī)本开支合计为75％。自长江存储被加(jiā)入美国限制(zhì)名单(dān)，设备国产化进(jìn)程加速(sù)，看好拓荆科技（薄膜沉积）等(děng)相关公司(sī)份额提升，以及(jí)存储业务占比较高的华(huá)海(hǎi)清科(kē)（CMP）、盛美(měi)上海（清洗）等收(shōu)入增长。

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