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本初是谁

本初是谁 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界(jiè)4月24日消(xiāo)息(xī),国家知识产权(quán)局局(jú)长申长雨在新闻发布会上表(biǎo)示,将统筹(chóu)推(tuī)进(jìn)各类知识产权法律法(fǎ)规(guī)和制度规则的制修订工作(zuò)。其中(zhōng),修(xiū)改完善集成电(diàn)路(lù)布图设计保护条例(lì),适(shì)应大规(guī)模(mó)集(jí)成电路发展需(xū)要,助力芯(xīn)片产业做大做强,服务数字经济更(gèng)好(hǎo)发展。

  加强大数据(jù)、人工智能、基因技术(shù)等新领域新业态知识本初是谁(shí)产权规(guī)则研究(jiū),助力相关领域创新发(fā)展。同时,积极参(cān)与知识产(chǎn)权国际规(guī)则制定,更(gèng)好对接高标准国际(jì)经(jīng)贸规则(zé),助力高水(shuǐ)平对外开(kāi)放。

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