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本初是谁

本初是谁 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月(yuè)24日消息,国家(jiā)知识产(chǎn)权局局长申长雨在新闻发(fā)布会上表(biǎo)示(shì),将统(tǒng)筹推(tuī)进各类知识产权法律(lǜ)法规和制度(dù)规则的(de)制修订工作。其中(zhōng),修改完善集成(chéng)电路布图设计保护条例,适(shì)应大规模(mó)集(jí)成电路发展需(xū)要,助力芯片产(chǎn)业做大做强,服务数字经(jīng)济更好发展。

  加强大(dà)数据、人工(gōng)智能、基因技(jì)术(shù)等(děng)新领域新业态知(zhī)识产权规则研究,助力(lì)相关领域创(chuàng)新(xīn)发展。同时,积极参与(yǔ)知(zhī)本初是谁识产(chǎn)权(quán)国际规则制(zhì)定,更好对接高标准国际经贸(mào)规则,助力(lì)高(gāo)水平对外(wài)开放(fàng)。

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