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戴偏旁是戈还是十字旁,戴偏旁是戈还是十一画 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融(róng)界4月(yuè)24日消息,国家知识产(chǎn)权局局长申长雨在(zài)新闻发布(bù)会上表示,将统筹推进各(gè)类知识产权(quán)法律(lǜ)法规和制度规则(zé)的(de)制修订工作。其中,修改(gǎi)完善集(jí)成(chéng)电路(lù)布图(tú)设(shè)计保护条例(lì),适应大规模集成电路发展需要,助力芯片(piàn)产业做大做强,服务(wù)数字经济更好发展。

  加强大数据、人工(gōng)智能、基(jī)因技术等新领域新(xīn)业态知(zhī)识(shí)产(chǎn)权规则研(yán)究,助(zhù)力相关领(lǐng)域创(chuàng)新(xīn)发(fā)展。同时,积极参与知识产权国际规则制(zhì)定,更好对接(jiē)高标准国际经贸规则,助戴偏旁是戈还是十字旁,戴偏旁是戈还是十一画力高水平对外开(kāi)放。

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