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　　美光(guāng)公司在华销售(shòu)的产品未(wèi)通过网(wǎng)络安全审查

　　据(jù)网信(xìn)办消(xiāo)息，日前，网络安全(quán)审查办公室依法对美光公司在华销售产(chǎn)品(pǐn)进行(xíng)了网络(luò)安全审(shěn)查。

　　审查(chá)发现，美光公司产品存在较严重(zhòng)网络安(ān)全问题隐患，对(duì)我国关(guān)键(jiàn)信息基础设施供应链造成重大(dà)安全(quán)风险，影(yǐng)响(xiǎng)我国国家安全。<面膜对脸真的有用吗，长期敷面膜和不面膜对脸真的有用吗，长期敷面膜和不敷面膜的区别敷面膜的区别/strong>为此，网络(luò)安全审查(chá)办公室(shì)依法作出(chū)不予通过网络安全(quán)审(shěn)查的结论。按(àn)照(zhào)《网(wǎng)络安全法》等法律法规(guī)，我(wǒ)国内(nèi)关键信息(xī)基础设施的运营者应停止(zhǐ)采(cǎi)购美光公司产(chǎn)品。

　　此次对美光公司产(chǎn)品进行(xíng)网络安全审查，目的是防范(fàn)产品(pǐn)网络安(ān)全问题危害(hài)国家关键(jiàn)信息基础(chǔ)设施(shī)安全，是维护国家安全(quán)的必要措(cuò)施。中国(guó)坚定推进高水平对外开放，只要遵守(shǒu)中国(guó)法(fǎ)律法规要求，欢迎各国企(qǐ)业、各类平(píng)台产品服务进入(rù)中国市场。

　　3月31日，中国网信(xìn)网(wǎng)发文(wén)称，为保障关键信(xìn)息基(jī)础(chǔ)设(shè)施供应链安全，防范产品问题(tí)隐患造成(chéng)网(wǎng)络(luò)安全风(fēng)险，维(wéi)护国(guó)家安全，依据《中华人民共和国国(guó)家安全法(fǎ)》《中(zhōng)华人民共和国网络安全法》，网络安全(quán)审查办公室按(àn)照(zhào)《网(wǎng)络安全审查办法》，对美光公司（Micron）在华销售的产品实施网络安全(quán)审查。

　　美光是美国的存(cún)储芯(xīn)片行业龙头，也是(shì)全(quán)球存储芯片巨头之一，2022年收入来自中国市场收入从此前高峰57％降至(zhì)2022年约(yuē)11％。根据市场咨询机(jī)构(gòu) Omdia（IHS Markit）统计(jì)，2021 年三(sān)星(xīng)电(diàn)子、 铠侠、西(xī)部数据、SK 海力士、美(měi)光、Solidigm 在全球(qiú) NAND Flash （闪存）市场份额约为 96.76％，三星(xīng)电子、 SK 海(hǎi)力士、美光(guāng)在全球 DRAM （内存(cún)）市场份额约为 94.35％。

　　A股(gǔ)上(shàng)市(shì)公司中，江波龙(lóng)、佰维存储等公司(sī)披露过(guò)美光等国际(jì)存(cún)储厂(chǎng)商为(wèi)公司(sī)供应商。

　　美光在(zài)江波龙采购占比已(yǐ)经显著下(xià)降(jiàng)，至少(shǎo)已经不是主要(yào)大供(gōng)应(yīng)商。

　　公告显示， 2021年美光位列江波龙第一大存(cún)储晶(jīng)圆供应商，采购约31亿(yì)元，占比33.52％；2022年，江(jiāng)波龙第一大、第二大和第(dì)三大(dà)供(gōng)应商采(cǎi)购(gòu)金额占比(bǐ)分(fēn)别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙已(yǐ)经在(zài)存储产业链上下(xià)游建立国内外广(guǎng)泛合作。2022年年报显示，江波龙与三星、美光、西部(bù)数据(jù)等主(zhǔ)要存储(chǔ)晶圆原厂签署了(le)长期(qī)合(hé)约，确(què)保存储晶圆供应的稳定性(xìng)，巩固公(gōng)司(sī)在下游市场的供应(yīng)优势，公(gōng)司也与国内(nèi)国产存储(chǔ)晶圆原厂武汉长江存储、合肥长(zhǎng)鑫(xīn)保持良好(hǎo)的合作。

　　有券商(shāng)此前(qián)就分析，如果美光在中国区销售(shòu)受到限制，或将导致下游客户转而采购(gòu)国(guó)外三星(xīng)、 SK海力(lì)士，国内长江存储、长鑫存储等竞对(duì)产品

　　分析称，长(zhǎng)存、长鑫的上游设备厂(chǎng)或从中受(shòu)益。存储器的生产(chǎn)已经(jīng)演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的工艺。另(lìng)外NAND Flash现在(zài)已经进入3D NAND时代(dài)，2 维到3维的结构转(zhuǎn)变使刻蚀和(hé)薄膜成为最关键(jiàn)、最大量的(de)加工设备(bèi)。3D NAND每层均需要(yào)经过薄膜(mó)沉积工艺步骤，同时刻蚀目前前沿要刻(kè)到 60：1的深孔，未来(lái)可能(néng)会更深(shēn)的(de)孔或者沟槽，催(cuī)生(shēng)更多设备需求。据东京电子披(pī)露(lù)，薄膜沉积设备及(jí)刻(kè)蚀占(zhàn)3D NAND产(chǎn)线(xiàn)资本开(kāi)支(zhī)合(hé)计为75％。自(zì)长江存储被加入美国限制名单，设备国(guó)产(chǎn)化进(jìn)程(chéng)加速，看好拓(tuò)荆(jīng)科技（薄膜沉(chén)积）等相(xiāng)关公司份额提升，以及存储业务占比较高的华海(hǎi)清(qīng)科（CMP）、盛美上海（清洗）等收入增长。